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    鉻鎢合金靶材(Cr-W)

    2Cr-W.png

    Cr-W.png

    產品名稱:鉻鎢合金靶材

    純度:99.9%, 99.95%

    生產工藝:真空熱壓

    使用工藝:直流濺射,直流反應濺射

    用途: 

    1. 可用于電極觸頭材料等鍍膜領域,制備具有高硬度、高耐電壓強度、低截流值、可替代純鎢的薄膜材料

    2. 反應濺射做成氮化鉻鎢膜,用于微型鉆頭鍍膜,可以替代純CrN薄膜(由純鉻靶材反應濺射而成),硬度更高 

    3. CrW薄膜具有寬光譜光(300-1000nm)熱效應效能

     

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